羞羞视频在线科學告訴你：光電直讀（dú）光譜儀的誤差（chà）如（rú）何避免（miǎn）

光電直讀光譜（pǔ）儀雖然（rán）本（běn）身測量準確度很高，但測（cè）定試樣中元素含量時（shí）， 所得結果與真實含（hán）量通常不一（yī）致，存在一定誤差，並且受諸多因素的影響，有的材料本（běn）身含（hán）量就（jiù）很低。下麵就（jiù）誤差的種類、來源及如何避免誤差進行分析（xī）。

根據誤差（chà）的（de）性質及產生原因， 誤差可分為下（xià）麵幾種：

1.係統誤差的來源

(1)標樣和試樣中的含量和化學組成不完全相同（tóng）時，可能（néng）引起基體線和分析線的強度改變（biàn），從而引入誤差。

(2)標樣和試樣的物理性能不完全（quán）相同時，激發的特征譜線會有差別（bié）從而產生係統誤差。

(3)澆注狀態的鋼樣與經過退火、淬（cuì）火、回火、熱軋、鍛壓狀態的鋼樣金屬組織結構不相同時，測出（chū）的數據（jù）會有所差別。

(4)未知元素譜線的重疊幹擾。如熔煉過程中加入脫氧劑、除硫磷劑時，混（hún）入未知合金（jīn）元素而引入（rù）係（xì）統誤差。

(5)要消除係統誤差（chà），必須嚴格按照標準樣品製（zhì）備規定要求。為了檢查係統誤差，就需要采用化學分析方法分（fèn）析多次校對結（jié）果。

2.偶然誤差的來源

與樣品成分不均勻有關的誤差（chà）。因為光電光（guāng）譜分析所消耗的（de）樣品很（hěn）少，樣品中（zhōng）元素分布（bù）的（de）不均勻性（xìng）、組織結構的（de）不均勻性，導致不（bú）同部位的分析結（jié）果不同而產生偶然（rán）誤差。主要原因（yīn）如下：

(1)熔（róng）煉過程中帶入夾（jiá）雜物，產生的（de）偏析等造成樣品（pǐn）元素分（fèn）布不均。

(2)試樣（yàng）的缺陷、氣孔、裂（liè）紋、砂眼等。

(3)磨樣紋路交叉、試樣研（yán）磨過熱、試樣磨麵放置時間太長和壓上指紋等因素。

(4)要減少偶然（rán）誤差，就要精（jīng）心取樣，消除試樣的（de）不均（jun1）勻性及試樣的鑄造缺陷，也可以重複多次分析來降低分析誤差。

（火花直讀光（guāng）譜儀）

3.其他因素誤差

(1)氬氣不純。當氬氣中含有氧和水（shuǐ）蒸氣時，會使激發斑點變壞（huài）。如果氬（yà）氣管道與電（diàn）極架有汙染物排不出去，分析結果會變（biàn）差。

(2)室內溫度的升高會增加光電倍增管的暗電流，降（jiàng）低信噪（zào）比。濕度大容易（yì）導致（zhì）高壓元件發（fā）生漏電、放電現象，使分（fèn）析結果不穩定。

如（rú）何避免（miǎn）誤差：

(1)試樣表麵要（yào）平整，當（dāng）試樣放在（zài）電極架上時，不能有漏氣現象。如有漏（lòu）氣，激發時聲音不正常。

(2)樣品與控製標樣的磨紋粗細要一致，不能有交叉紋，磨樣用力不要過（guò）大，而（ér）且（qiě）用力要均勻，用力過（guò）大，容易造成試樣表麵氧化。

(3)對（duì）高鎳（niè）鉻鋼磨樣時，要使用新砂輪片磨樣，磨紋操（cāo）作要求更嚴（yán）格。

(4)試樣不能有偏析、裂紋、氣孔等缺（quē）陷，試樣要有一定的代表性。

(5)電極的頂（dǐng）尖應具有一定角度，使光軸不偏離中心，放（fàng）電間隙（xì）應保持不變，否則聚焦在分光儀的譜線強度會（huì）改（gǎi）變。多次重複放電以後，電極會長尖，改變了放電間隙。激發產生的金屬蒸氣也會汙染電極。所以必須激（jī）發（fā）一次後就用刷子清理（lǐ）電極。

(6)透鏡內表麵常常受到來自真空泵油蒸氣的汙染，外表麵受（shòu）到分析時產生金屬蒸氣的附著，使透過率明顯降低，對波（bō）長小於200nm的碳、硫、磷譜線的（de）透過率影響更顯著，所以聚光鏡要進行（háng）定期清（qīng）理。

(7)真空（kōng）度不夠高會降低分析（xī）靈敏度， 特別是波長小於200nm的元（yuán）素更明顯， 為此要求真（zhēn）空度達0.05mmHg。

(8)出射狹縫的位置變化受溫度的影響大，因此保持分光室內恒溫30℃很重要，還要求室內（nèi）溫度保持一致，使出射狹縫不偏離正（zhèng）常。